本書介紹了利用多金屬氧酸鹽做為還原劑、配位劑/包覆劑以及穩(wěn)定劑合成貴金屬納米粒子的方法，包括Au/Ag/Pd/Pt@POM四類納米粒子的具體合成方法，同時還介紹了它們在相關(guān)領(lǐng)域的卓越性質(zhì)。對多金屬氧酸鹽修飾的貴金屬納米材料的合成及性質(zhì)研究領(lǐng)域具有指導(dǎo)意義。

本書為“低維材料與器件叢書”之一。由于低維材料尺寸較小，其通常具有較高比表面積和活性，這使得大量、穩(wěn)定地制備低維材料需要用到一些特殊的方法。此外，低維材料的性能與其形貌、物相、成分及元素分布等關(guān)系密切，因此還需要考慮制備過程及產(chǎn)物的可控性。以低維材料的實際應(yīng)用為導(dǎo)向，本書系統(tǒng)介紹了通過物理、化學(xué)方法制備低維材料的策略。

本書研究了活性中心摻雜多孔材料的發(fā)光特性。第一部分研究鉍摻雜的氧化多孔硅薄膜的發(fā)光特性。另一方面，研究了不同退火溫度和不同氣氛下?lián)诫sBi的多孔二氧化硅薄膜的PL特性，發(fā)現(xiàn)近紅外線發(fā)光強(qiáng)烈地依賴于退貨氣氛和溫度。第二部分研究了沸石中銀團(tuán)簇/離子對稀土離子的光敏化作用。通過在沸石籠中同時摻雜銪和銀，實現(xiàn)了銀團(tuán)簇/離子對三價

二維原子晶體材料如石墨烯、二硫化鉬、二硫化鎢、黑磷和硼單層是近年來學(xué)術(shù)界最熱門的研究領(lǐng)域之一，對二維材料的物性研究、新工藝/新方法探索以及對其構(gòu)筑微納器件的全面發(fā)展，將對科學(xué)技術(shù)和社會發(fā)展產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響。《二維原子晶體材料和器件》以南京航空航天大學(xué)機(jī)械結(jié)構(gòu)力學(xué)及控制國家重點實驗室研究團(tuán)隊多年的研究成果為基礎(chǔ)，匯集了國內(nèi)外

本書主要從埃洛石的結(jié)構(gòu)性質(zhì)出發(fā)，詳細(xì)介紹了其表面改性方法、埃洛石水凝膠、聚合物納米復(fù)合膜、聚合物納米復(fù)合塊體材料、聚合物納米復(fù)合纖維，并指出了其在光電催化、生物醫(yī)用和環(huán)境保護(hù)等方面的應(yīng)用方向。本書的目的在于總結(jié)現(xiàn)有的埃洛石的研究工作，激發(fā)埃洛石的進(jìn)一步研究的熱情，碰撞出新的交叉性創(chuàng)新思維，全面推廣埃洛石這種新型材料的實

《圖解粉體和納米材料》是“名師講科技前沿系列”中的一本，內(nèi)容包括粉體及其性質(zhì)、粉體參數(shù)如何測量、粉體的制備與操作、粉體的應(yīng)用、納米材料和納米技術(shù)、碳納米管和石墨烯、納米材料的應(yīng)用7章。針對入門者、應(yīng)用者、研究開發(fā)者、決策者等多方面的需求，本書采用每章之下“節(jié)節(jié)清”的論述方式，圖文對照，并給出“本節(jié)重點”。力求做到深入淺

本書根據(jù)作者多年的石墨烯薄膜制備經(jīng)驗和研究成果，并結(jié)合國內(nèi)外石墨烯薄膜制備的最新研究進(jìn)展編撰而成。本書主要介紹基于化學(xué)氣相沉積法的石墨烯薄膜制備技術(shù),首先對石墨烯概念、發(fā)展歷程和表征進(jìn)行概括介紹，接著簡單介紹化學(xué)氣相沉積技術(shù)，然后系統(tǒng)介紹石墨烯的成核與生長、單晶石墨烯的制備、石墨烯的層數(shù)控制，進(jìn)一步介紹石墨烯薄膜的轉(zhuǎn)移

本書是主要介紹利用X射線等激發(fā)樣品從而表征材料結(jié)構(gòu)，特別是納米材料晶體結(jié)構(gòu)相關(guān)信息的專著。考慮到納米材料的特殊性，本書分為三個部分：晶體學(xué)基礎(chǔ)、X射線衍射理論基礎(chǔ)、X射線實驗裝置和方法等四章為基礎(chǔ)部分；中間部分是X射線衍射分析方法和應(yīng)用，包括物相定性和定量、晶體學(xué)參數(shù)測定、納米材料微結(jié)構(gòu)的衍射線形分析、Rietveld

該書結(jié)合作者20年來在經(jīng)典富勒烯、內(nèi)嵌富勒烯、富勒烯衍生物和非經(jīng)典富勒烯領(lǐng)域的研究成果，依次闡釋了各個分支領(lǐng)域的研究重點和進(jìn)展。第1章詳細(xì)介紹了內(nèi)嵌金屬富勒烯的合成、提取和分離方法；第2章詳細(xì)闡述了富勒烯的構(gòu)造方法和性質(zhì)后，簡要介紹了富勒烯的應(yīng)用。第3章在概述內(nèi)嵌富勒烯的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)基礎(chǔ)上，闡述了內(nèi)嵌富勒烯的系統(tǒng)研究方法

石墨烯有望在諸多應(yīng)用領(lǐng)域中成為新一代器件，但這些元件要達(dá)到實際應(yīng)用水平，還需要解決一大問題。那就是如何在所要求的基板或位置制作出不含缺陷及雜質(zhì)的高品質(zhì)石墨烯，或者通過摻雜法實現(xiàn)所期望載流子密度的石墨烯。用于透明導(dǎo)電膜用途時能否實現(xiàn)大面積化及量產(chǎn)化，而用于晶體管用途時能否提高層控制精度，這些問題都十分重要。今后，為了探尋