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本書介紹了光學元件磁流變拋光理論與關鍵工藝，尤其重點介紹了離軸非球面光學元件磁流變拋光關鍵技術。第一章～第六章側重介紹磁流變拋光的理論和工藝研究，主要針對高精度光學鏡面磁流變拋光過程中的去除函數多參數模型、表面與亞表面質量控制、駐留時間高精度求解與實現(xiàn)、修形工藝優(yōu)化方法等關鍵問題進行深入研究和實驗驗證；第七章～第十二章

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