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光刻是集成電路制造的核心技術，光刻工藝成本已經超出集成電路制造總成本的三分之一。在集成電路制造的諸多工藝單元中，只有光刻工藝可以在硅片上產生圖形，從而完成器件和電路三維結構的制造。計算光刻被公認為是一種可以進一步提高光刻成像質量和工藝窗口的有效手段。基于光刻成像模型，計算光刻不僅可以對光源的照明方式做優(yōu)化，對掩模上圖形

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