本書聚焦半導(dǎo)體材料和后摩爾新材料的太赫茲（THz）發(fā)射光譜技術(shù)，介紹THz發(fā)射光譜技術(shù)的原理、發(fā)展進程以及系統(tǒng)應(yīng)用，展示 THz 發(fā)射光譜技術(shù)應(yīng)用于集成電路領(lǐng)域的巨大價值，旨在為實現(xiàn)集成電路先進制程提供技術(shù)支撐和解決問題的思路。 本書主要內(nèi)容包括半導(dǎo)體THz發(fā)射光譜起源、光學(xué)THz發(fā)射光譜物理基礎(chǔ)、光學(xué)THz輻射實驗技術(shù)、Ⅲ-Ⅴ族半導(dǎo)體驅(qū)動THz輻射、二維材料THz輻射、拓撲量子材料THz輻射、磁性材料THz輻射和激光THz發(fā)射顯微鏡。 本書主要面向物理學(xué)、化學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域的科研人員、研究生，以及對THz技術(shù)感興趣的讀者。