本書內(nèi)容以脆性光學(xué)元件原子級(jí)超光滑加工為應(yīng)用背景，提出了脆性光學(xué)元件彈性域超光滑加工方法，對(duì)光學(xué)材料彈性域去除機(jī)理展開了全面深入的研究。書稿具有較高的學(xué)術(shù)價(jià)值，作者的研究方法，過程和結(jié)果對(duì)同行業(yè)研究者具有借鑒意義和參考價(jià)值，是一部值得出版的學(xué)術(shù)著作。隨著光學(xué)和微電子學(xué)領(lǐng)域及其相關(guān)學(xué)科的發(fā)展對(duì)超光滑表面的需求量越來越大，同時(shí)加工要求也越來越高，不但要求達(dá)到原子級(jí)的超光滑表面，同時(shí)要求加工表面具有優(yōu)良的完整性。為滿足現(xiàn)代科技發(fā)展對(duì)超光滑表面提出的嚴(yán)格要求，本書針對(duì)光學(xué)元件的彈性域去除機(jī)理展開全面系統(tǒng)的研究，探索如何獲取原子級(jí)超光滑表面。本書研究可為流體動(dòng)壓超光滑加工在實(shí)際應(yīng)用中的推廣奠定基礎(chǔ)。