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內(nèi)容適應(yīng)性超像素生成技術(shù)研究

內(nèi)容適應(yīng)性超像素生成技術(shù)研究

定  價(jià):68 元

        

  • 作者:原野著
  • 出版時(shí)間:2023/12/1
  • ISBN:9787205109851
  • 出 版 社:遼寧人民出版社
  • 中圖法分類(lèi):TN911.73 
  • 頁(yè)碼:250頁(yè)
  • 紙張:
  • 版次:
  • 開(kāi)本:26cm
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超像素生成是對(duì)圖像的一種過(guò)度分割,它通過(guò)對(duì)像素進(jìn)行標(biāo)記將一組具有相似特性(如顏色、位置、內(nèi)容含義等)的像素聚合為一個(gè)超像素。超像素生成過(guò)程中,其邊緣貼合特性與形狀規(guī)整特性相異引起的準(zhǔn)確度與規(guī)整度全局性的非必要互斥極大影響了結(jié)果質(zhì)量,內(nèi)容適應(yīng)性超像素布局則能夠消減這種互斥,是能滿(mǎn)足圖像不同區(qū)域需求的有效手段。本書(shū)圍繞超像素算法在實(shí)際應(yīng)用中的作用,總結(jié)和分析了現(xiàn)有超像素生成算法的特點(diǎn)和不足,并基于超像素內(nèi)容適應(yīng)性布局,對(duì)圖像內(nèi)容加以分析,提出了一種新的布局策略,并以此構(gòu)造了三個(gè)新的超像素生成算法,能夠在有效減少兩者互斥的基礎(chǔ)上,實(shí)現(xiàn)超像素生成質(zhì)量的提升。
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