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電子薄膜技術(shù)與前沿應(yīng)用
全書涵蓋了從真空技術(shù)、蒸發(fā)鍍膜法、濺射沉積法等傳統(tǒng)薄膜制備技術(shù),到電子薄膜生長理論、常見表征方法、新型薄膜材料的開發(fā)與應(yīng)用等多個方面。在第十章中,重點(diǎn)討論了電子薄膜技術(shù)在微電子、集成電路、能源電子、超導(dǎo)以及柔性電子等領(lǐng)域中的最新應(yīng)用與發(fā)展。
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