本書系統(tǒng)地介紹了光場成像的發(fā)展與現(xiàn)狀，通過對比光場相機的成像特點闡述了不同的檢校方法；在光場相機的重聚焦和全聚焦方面論述并對比了不同算法的特點；在論述基于成像一致性的深度檢測算法基礎(chǔ)上，分析并對比了不同主流算法的效率和效果。在光場相機不斷發(fā)展的基礎(chǔ)上，虛擬現(xiàn)實、智能駕駛、工業(yè)檢測等應(yīng)用也在后一章給出了示例和展望。

本書通過對產(chǎn)品經(jīng)理日常工作中的場景拆解，包括用戶體驗、用戶增長、產(chǎn)品開發(fā)、數(shù)據(jù)分析、產(chǎn)品設(shè)計等，利用可執(zhí)行的思維模型，例如KT決策法、六個思考帽、TTP模型等，以解決在產(chǎn)品從0到1過程中遇到的問題。通過對模型的介紹，以及模型在具體案例中的應(yīng)用，讓產(chǎn)品經(jīng)理可以掌握模型思維，有效提升自身的產(chǎn)品能力。本書共9章，第1章～第3

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《材料科學(xué)與工程實驗設(shè)計與數(shù)據(jù)處理》注重實用，通俗易懂。內(nèi)容包括回歸分析、方差分析的Excel軟件實現(xiàn)方法，單因素實驗優(yōu)化設(shè)計、多因素實驗設(shè)計、正交實驗設(shè)計和均勻設(shè)計等全部簡單實用的實驗設(shè)計方法。各章節(jié)間有一定的獨立性，讀者可以根據(jù)自己的情況有選擇地學(xué)習(xí)。書中案例大部分選自編者的科研工作和國內(nèi)外材料科學(xué)與工程學(xué)科其他研

本書與王彥鳳主編、機械工業(yè)出版社出版的《工程圖學(xué)》教材配套使用，也可單獨用于工程圖學(xué)課程的教學(xué)練習(xí)。本書以培養(yǎng)學(xué)生的工程素質(zhì)和實踐能力為目標，主要內(nèi)容包括制圖基本知識，投影法及幾何元素的投影，基本立體，組合體，軸測圖，機件常用的表達方法，標準件和常用件，零件圖，裝配圖，焊接圖、鈑金制件工作圖及表面展開圖和計算機繪圖基礎(chǔ)

本書是在全面調(diào)研的基礎(chǔ)上，根據(jù)對應(yīng)學(xué)科新的人才培養(yǎng)方案和教育部高等學(xué)校工科基礎(chǔ)課程教學(xué)指導(dǎo)委員會于2019年發(fā)布的《理論力學(xué)課程教學(xué)基本要求（B類）》和《材料力學(xué)課程教學(xué)基本要求（B類）》，從一般院校的實際情況出發(fā)，適應(yīng)工程人才培養(yǎng)的理念和模式，突出能力培養(yǎng)，調(diào)整內(nèi)容體系，適當(dāng)壓縮教材篇幅，以滿足64～80學(xué)時工程力學(xué)

本書系統(tǒng)總結(jié)了目前功能高分子材料的研究現(xiàn)狀、發(fā)展方向、最新研究進展和未來發(fā)展方向。主要論述在工程上應(yīng)用較廣和具有重要應(yīng)用價值的一些功能高分子材料品種。如已發(fā)展較為成熟的吸附性高分子、液晶高分子、導(dǎo)電高分子、高分子表面活性劑等，對它們的研究和發(fā)展方向以及最新成果做了一定的介紹，同時對于一些新的功能高分子材料，如形狀記憶高

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本書以材料的晶體結(jié)構(gòu)及晶體缺陷為主要內(nèi)容，講述材料從原子(或離子、分子)、原子間作用、原子間排列到材料基本屬性和基本行為的重要概念和基礎(chǔ)理論。全書的具體內(nèi)容包括：材料結(jié)構(gòu)的基本知識，晶體學(xué)基礎(chǔ)，金屬晶體的結(jié)構(gòu)，離子晶體的結(jié)構(gòu)，共價晶體的結(jié)構(gòu)，高分子材料的結(jié)構(gòu)，晶體中的點缺陷、位錯、面缺陷、體缺陷等。