本習(xí)題集由淺入深，覆蓋了機(jī)電類、近機(jī)電類專業(yè)應(yīng)掌握的制圖知識(shí)，具體包括制圖的基本知識(shí)與基本技能、正投影法、幾何體的投影、軸測(cè)圖、組合體、機(jī)件常用表達(dá)方法、標(biāo)準(zhǔn)件和常用件、零件圖、裝配圖等內(nèi)容。本習(xí)題集根據(jù)教育部制定的高職高�！肮こ讨茍D課程教學(xué)基本要求”，結(jié)合高職高專教學(xué)改革的基礎(chǔ)上組織編寫，與同時(shí)出版的由孫永華、任勇主

本書根據(jù)教育部最新的職業(yè)教育教學(xué)改革要求，順應(yīng)機(jī)械行業(yè)企業(yè)職業(yè)崗位技能的變化，采用最新的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，體現(xiàn)國(guó)家倡導(dǎo)的工匠精神、職業(yè)精神、產(chǎn)教融合等，按照高等職業(yè)教育培養(yǎng)技術(shù)技能人才的特點(diǎn)，梳理學(xué)生所需的職業(yè)能力，以典型任務(wù)為主線，內(nèi)容涵蓋制圖的基本知識(shí)與基本技能、正投影法、幾何體的投影、軸測(cè)圖、組合體、機(jī)件常用表達(dá)方法、標(biāo)

本書介紹了材料科學(xué)與工程領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用的現(xiàn)代分析方法及其實(shí)踐案例，全書由張厚安教授主編，十余位材料研究領(lǐng)域?qū)W者共同編撰完成，內(nèi)容豐富、結(jié)構(gòu)清晰。本書圍繞XRD、SEM、TEM、XPS、AFM、拉曼、紅外、熱分析、橢偏儀等先進(jìn)分析方法，結(jié)合金屬與合金、金屬間化合物、金屬陶瓷與陶瓷、新能源材料、高分子材料、表面涂層材料等的

本書共八個(gè)單元,每個(gè)單元圍繞一個(gè)與工程相關(guān)的主題展開,如工程師素養(yǎng)、工程師職業(yè)道德準(zhǔn)則、工程師的價(jià)值、工程師藝術(shù)鑒賞、工程師職業(yè)發(fā)展等。本書每個(gè)單元包含兩篇閱讀課文,習(xí)題類型多樣化。其中,每個(gè)單元包含一個(gè)小組協(xié)作項(xiàng)目,鼓勵(lì)學(xué)生將所學(xué)知識(shí)和技能應(yīng)用于工程實(shí)際案例中。

《工程制圖與CAD》是根據(jù)教育部高等職業(yè)院校工程類專業(yè)教學(xué)標(biāo)準(zhǔn)和高等學(xué)校工程圖學(xué)課程教學(xué)指導(dǎo)委員會(huì)的教學(xué)要求，結(jié)合育人引領(lǐng)、職教特色以及產(chǎn)業(yè)需求，遵循工程制圖國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，為高職院校工程類專業(yè)學(xué)生學(xué)習(xí)制圖而編寫的教學(xué)用書。全書共分為工程制圖基礎(chǔ)和CAD制圖兩個(gè)模塊，其中，工程制圖基礎(chǔ)模塊主要介紹圖框設(shè)計(jì)與繪制、圖元樣式與應(yīng)

本書共13章：緒論、軸向拉伸壓縮與剪切、平面圖形的幾何性質(zhì)、扭轉(zhuǎn)、彎曲內(nèi)力-剪力和彎矩、彎曲應(yīng)力、彎曲變形、應(yīng)力狀態(tài)分析、強(qiáng)度理論、組合變形、壓桿穩(wěn)定性、動(dòng)荷載、能量法。每章節(jié)后附有習(xí)題和簡(jiǎn)要答案。書后還有兩個(gè)附錄。

本書共分4章，第一章為分子動(dòng)力學(xué)模擬在高聚物微/納結(jié)構(gòu)成型制造領(lǐng)域的應(yīng)用，第二章為分子動(dòng)力學(xué)模擬在高聚物基復(fù)合材料成型制造領(lǐng)域的應(yīng)用，第三章為分子動(dòng)力學(xué)模擬在高聚物-異質(zhì)材料復(fù)合結(jié)構(gòu)成型制造領(lǐng)域的應(yīng)用，第四章為分子動(dòng)力學(xué)模擬在高聚物微流控芯片成型制造領(lǐng)域的應(yīng)用。

本書是作者在二十多年工程制圖課程教學(xué)經(jīng)驗(yàn)的基礎(chǔ)上，總結(jié)近十幾年來(lái)將參數(shù)化造型設(shè)計(jì)技術(shù)全面系統(tǒng)地引入工程制圖課程教學(xué)改革的實(shí)踐編寫而成的。本書有別于“三維造型”軟件操作講解的書籍，從參數(shù)化造型設(shè)計(jì)的內(nèi)涵出發(fā)，強(qiáng)化設(shè)計(jì)意識(shí)和設(shè)計(jì)思想的精確表達(dá)，在介紹參數(shù)化造型設(shè)計(jì)的原理和方法的同時(shí)，加強(qiáng)自我學(xué)習(xí)能力的培養(yǎng)。本書使用一系列精

《Ⅲ族氮化物薄膜生長(zhǎng)與測(cè)試》聚焦國(guó)家半導(dǎo)體戰(zhàn)略，系統(tǒng)論述了寬禁帶半導(dǎo)體核心材料Ⅲ族氮化物的基礎(chǔ)理論、制備技術(shù)與性能評(píng)估方法。**篇從晶體結(jié)構(gòu)、物理化學(xué)特性出發(fā)，解析材料在光電子與高功率器件中的應(yīng)用機(jī)理；第二篇介紹了化學(xué)/物理氣相沉積技術(shù)原理與工藝優(yōu)化策略；第三篇闡述了光學(xué)、電學(xué)等性能多維度表征方法。同時(shí)，《Ⅲ族氮化物薄

本習(xí)題集與趙敏榮等主編《工程制圖》教材配套使用，其編寫次序與主教材保持一致。本習(xí)題集是依據(jù)教育部高等學(xué)校工程圖學(xué)教學(xué)指導(dǎo)分委員會(huì)于2019年制訂的《高等學(xué)校工程圖學(xué)課程教學(xué)基本要求以及最新的有關(guān)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)編寫而成。本習(xí)題集內(nèi)容包括制圖的基本知識(shí)和技能，投影法及空間幾何元素的投影，直線、平面的相對(duì)位置，換面法，立體的投影，